Dispelix创始人阐释，蚀刻光激波比纳米压印好在哪

时间：2025-05-25 12:52:25

统的最大FOV由酯铝制的色散来同意，而转印工艺核心技术则由玻璃幕墙晶圆的色散来同意，因此转用来得散的玻璃幕墙不锈钢（色散可增强至2.7），便可大幅度增强放大率角。

比如，色散2.0的日光种系统+RGB日光线可借助于40°圆圈放大率角，如果转用单色日光线，则可借助于70°圆圈放大率角。而色散1.8的酯铝制，上会并不需要借助于30°圆圈放大率角。

此外，转印工艺核心技术也可以像基体棱形那样所制造多种结构上，包括2D结构上、孔柱结构上、二元结构上等等。

产量各个方面，转印工艺核心技术原任容除此以外的太阳能电池所制造核心技术。相比之下，基体棱形的错误率来得高，如果在棱形现实生活中出现1微米粒子，则有可能出现10微米误差，另外在棱形转化现实生活也有可能产生疏忽。

转印工艺核心技术可转用深紫外日光等非接触式核心技术，而且粒子造成的误差来得小，核心技术来得加成熟，所制造现实生活中也可以转用基体棱形来转移金色。Sunnari对此：智能手机、平板软体的太阳能电池芯片就是用作转印类工艺核心技术来所制造的。

另外，转印工艺核心技术也兼具日镜面响应速度军事优势，在推测大放大率角图片时，酯铝制的日镜面响应速度会限制图片一致性和日透镜可靠性。

同时，转印工艺核心技术的建筑设计自由度来得高，这反之亦然日光种系统稳定性可以大幅度增强。转印工艺核心技术可以在晶圆上类比多种铝制（多达4层），这为RGB单层日光种系统建筑设计带来来得多自由。参考：AWE

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